Установка проекционной фотолитографии Suss MJB4

Ручная установка совмещения и экспонирования предназначена для контактной литографии на пластинах диаметром до 76 мм. Установка литографии характеризуется субмикронным разрешением, в пределе достигающим 0,5-0,8 мкм, за счет использования оптики с функцией уменьшения дифракции, компенсирующей нежелательные эффекты при литографии с микрозазором или в контактном режиме. Оборудование используется в производстве МЭМС и оптоэлектроники, микрофлюидных чипах. Система поддерживает режимы работы для наноимпринт-литографии в УФ. Установка MJB4 оборудована системой совмещения сверху с ручным управлением.