Установка для плазмохимического травления Plasmalab System100 ICP 380 (Oxford instruments, Великобритания)

Установка предназначена для травления полупровдниковых и диэлектрических слоев. Возможна обработка пластин диаметром до 200 мм. Установка плазмо-химического травления с индуктивно связанной плазмой позволяет обеспечивать высокие скорости травления одновременно с низким уровнем радиационных дефектов. Установка имеет восемь газовых магистралей, позволяющих варьировать газовую смесь в рабочей камере. Установка снабжена загрузочным шлюзом. Конструкция камеры предусматривает как нагрев, так и охлаждение подложкодержателя.