Установка для лазерной литографииDWL 66FS (Heidelberg instruments)

Установка для лазерной литографии Heidelberg DWL 66FS предназначена для формирования топологического рисунка на поверхности полупроводниковой пластины, а также для изготовления рисунка на металлизированных фотошаблонах.
Достигаемое разрешение – 0,7 мкм. Заявленное производителем – 1 мкм. Область экспонирования – от 20*20 мм до 200*200 мм. 
В базовой комплектации система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм. В зависимости от технических требований установка может быть оснащена другими лазерными системами: He-Cd (442 нм, 180 мВт), Kr-ion (413 нм, 300 мВт) или Ar-ion (363 нм, 180 мВт), UV (375 нм, 18 мВт).