2025 год – в Алфёровском университете год 95-летия со дня рождения Ж.И.Алфёрова
20 апреля не стало петербургского журналиста, писателя, друга Академического университета Аркадия Яковлевича Соснова.
В данном типе оборудования используется сфокусированный лазерный луч ультрафиолетового (УФ) диапазона для экспонирования тонкого фоточувствительного слоя (фоторезиста) на поверхности образца. Разрешение прибора составляет 0,6-0,7 мкм. Задавая траекторию движения лазерного луча, а также перемещая столик с образцом, в слое фоторезиста можно создавать структуры (паттерны) заданной геометрии. Описанный метод обладает субмикронным разрешением и позволяет быстро переносить дизайн экспонирования в фоторезист без использования специализированных фотомасок.
1 апреля открылась международная специализированная выставка лазерной, оптической и оптоэлектронной техники «Фотоника». Она ежегодно проводится уже 19 лет. Это крупнейшее отраслевое событие собрало ведущих производителей, разработчиков и потребителей фотонных технологий. «Фотоника» организована при поддержке Министерства промышленности и торговли РФ и под патронатом Торгово-промышленной палаты РФ. И Алферовский университет в этом году стал одним из участников выставки, предлагая собственные научные разработки и технологии.
